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半導(dǎo)體的污染雜質(zhì)和分類(lèi)二

來(lái)源:普洛帝測(cè)控原創(chuàng)
發(fā)布時(shí)間:2022-03-09
關(guān)鍵詞:
液體顆粒計(jì)數(shù)儀
顆粒計(jì)數(shù)器
普洛帝
PMT-2液體顆粒計(jì)數(shù)儀采用英國(guó)普洛帝核心技術(shù)創(chuàng)新型的第八代雙激光窄光顆粒檢測(cè)傳感器,雙精準(zhǔn)流量控制-精密計(jì)量柱塞泵和超精密流量電磁控制系統(tǒng),可以對(duì)清洗劑、半導(dǎo)體、超純水、電子產(chǎn)品、平板玻璃、硅晶片等產(chǎn)品的在線或離線顆粒監(jiān)測(cè)和分析,目前是英國(guó)普洛帝分析測(cè)試集團(tuán)向水質(zhì)領(lǐng)域及微納米檢測(cè)領(lǐng)域的重要產(chǎn)品。

1.3  金屬

半導(dǎo)體工藝中常見(jiàn)的金屬雜質(zhì)有鐵、銅、鋁、 鉻 、鎢 、鈦 、鈉 、鉀 、鋰等 ,這些雜質(zhì)的來(lái)源主要有:各種器皿、管道 、化學(xué)試劑,以及半導(dǎo)體圓片加工過(guò)程中,在形成金屬互連的同時(shí),也產(chǎn)生了各種金屬污染。這類(lèi)雜質(zhì)的去除常采用化學(xué)方法進(jìn)行,通過(guò)各種試劑和化學(xué)藥品配制的清洗液與 金屬離子反應(yīng),形成金屬離子的絡(luò)合物,脫離圓片表面。

1.4  氧化物

半導(dǎo)體圓片暴露在含氧氣及水的環(huán)境下表 面會(huì)形成自然氧化層。這層氧化薄膜不但會(huì)妨礙 半導(dǎo)體制造的許多工步,還包含了某些金屬雜 。

PMT-2液體顆粒計(jì)數(shù)儀采用英國(guó)普洛帝核心技術(shù)創(chuàng)新型的第八代雙激光窄光顆粒檢測(cè)傳感器,雙精準(zhǔn)流量控制-精密計(jì)量柱塞泵和超精密流量電磁控制系統(tǒng),可以對(duì)清洗劑、半導(dǎo)體、超純水、電子產(chǎn)品、平板玻璃、硅晶片等產(chǎn)品的在線或離線顆粒監(jiān)測(cè)和分析,目前是英國(guó)普洛帝分析測(cè)試集團(tuán)向水質(zhì)領(lǐng)域及微納米檢測(cè)領(lǐng)域的重要產(chǎn)品。


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